دراسة الخصائص البصرية لأغشية رقيقة لمركب كبريتيد الكادميوم بأستخدام طريقة الترسيب بالحمام الكيميائي
محتوى المقالة الرئيسي
الملخص
في هذا البحث تم ترسيب الاغشية الرقيقة لكبريتيد الكادميوم على قواعد من الزجاج بأستعمال تقنية الترسيب بالحمام الكيميائي من محلول مائي لكبريتيد الكادميوم (CdS) والثايوريا. الاغشية المحضرة تمتاز بكونها منتظمة ،ذات التصاقية وتمتلك نفاذية عالية في المنطقة المرئية . الدراسة التي تمت لأغشية كبريتيد الكادميوم تتضمن النفاذية البصرية، الثابت البصري ،ثابت العزل الكهربائي ،التوصيلية الضوئية ،فجوة الطاقة . الاغشية التي تمت دراستها في هذا البحث لها نفاذية عالية تصل الى اكبر من 86% لأطوال موجية تتراوح بين (500نانومتر الى 900نانومتر) وفجوة الطاقة 2.4 الكترون فولت.
تفاصيل المقالة
هذا العمل مرخص بموجب Creative Commons Attribution 4.0 International License.
كيفية الاقتباس
المراجع
Ortega M., Santana G., and Acevedo A.M., Superficies Vacio, 1999,9: 294 – 295.
S.A. Tomas, S. Stolik, V. Altuzar, and O. Zelaya, Review of Scientific Instrumnts, 74 (1): 2003, 569 – 571.
F.I. Ezema and P.E. Ugwuoke, The Pacific Journal of Science and Technology, 5 (1): 2003, 33 – 38.
S.M. Sze, 1981, "Physics of Semiconductor Devices", Second edition, Jon Wiley and Sons, New York, PP392-395
S. Dimitrijev, "Understanding Semiconductor Devices", Oxford University Press, 2000, PP182.
D.D.O.Eya, A.J.Ekpunobi, and C.E.Okeke, 2005, ”The pacific journal of science and technology” ,6(1): 16-22.
M.G. Jimenez, G. Martinez, J.L. Martinez, E. Gomez, and A. Zehe, J. Electrochem. Soc., 131 (12): 1984, 2974 – 2977.
G. Hodes, 2003, "Chemical solution deposition of semiconductor films", Marcel Dekker, PP418-420.
Lopez M.B.O., M.S. Lerma, A.M. Galvan, and R.R. Bon, 2004, Thin Solid Films, 457, 278 – 284.
Cullity B.D. and tock S.R. S, 2001, "Elements of X – Ray Diffraction", Third edition, Prentice-Hall in USA, PP75-78.