تأثير أشعة كاما في الخواص التركيبية لأغشية كبريتيد الخارصين الرقيقة المحضرة بطريقة التبخير الوميضي
محتوى المقالة الرئيسي
الملخص
باستخدام حيود الاشعة السينية تمت دراسة تأثير أشعة كاما في الخواص التركيبية لأغشية كبريتيد الخارصين الرقيقة المرسبة على قواعد من الزجاج بتقنية التبخير الوميضي الى ظهورالقمتين
(111),(220) في بطاقة الاشعة السينية دليل على التركيب التكعيبي للاغشية. ثابت الشبيكة ،الحجم الحبيبي ، معدل الاجهاد الداخلي ، المطاوعة المجهرية ، كثافة الانخلاعات ، وكانت المستويات البلورية المتسيدة قد حسبت وربطت بالتشعيع باشعة كاما.
تفاصيل المقالة
هذا العمل مرخص بموجب Creative Commons Attribution 4.0 International License.
كيفية الاقتباس
المراجع
- Arshak K. and Korostynska O. 2002, "Gamma Radiation Dosimetry Using Tellurium DioxideThin Film Structures” Sensors 2: 347-355.
- Zhu R.Y. 1998,"Radiation damage in scintillating crystals. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A, 413: 297-311.
- Sahraei R. , Motedayen G. A. , Baghizadeh A. , Lamehi-Rachti M. , Goudarzi A. , and Majles Ara M.H. 2008, " Investigation of the effect of temperature on growth mechanism of nanocrystalline ZnS thin films" , Materials Letters 62: 4345–4347.
- Moon H. , Nam C. , Kim Ch. and Kim B. 2006, " Synthesis and photoluminescence of zinc sulfide nanowires by simple thermal chemical vapor deposition" J.Materials Research Bulletin 41: 2013–2017.
- Charles C, Evans A. and Wihon Jr. ,1992."Encyclopedia of materials characterization",2ed, Jon Witeg&Son, New York, PP.428.
- Miyawaki T. and Ichimura M. 2007, "Fabrication of ZnS thin films by an improved photochemical deposition method and application to ZnS/SnS heterojunction cells", Materials Letters 61: 4683–4686.
- Kr Kalita P. , Ksarma B. and Das H. L. 2000, " Structural characterization of vacuum evaporated ZnSe thin films " J.Bull. Mater. Sci., 23(4): 313–317.
- Cullity B.D. and Stock S.R., 2001." Elements of X-ray Diffraction ", Prentice- Hall, Englewood Cliff, NJ, PP. 324.
- Mahalingam T. John V. S.and Hsu L. S. 2007," Microstructural Analysis of Electrodeposited Zinc Oxide Thin Films". Journal of New Materials for Electrochemical Systems 10: 9-14.
- Sagar P. , Kumar M. and Mehra R.M. 2005," Electrical and optical properties of sol-gel derived ZnO:Al thin films" Materials Science-Poland, 23(3).PP 685.
- John T. A. and Hoffman D. W. 1989," Stress-related effects in thin films" , Thin Solid Films 171, PP 5.
- Gupta V. and Mansingh A. 15 July 1996, " Influence of postdeposition annealing on the structural and optical properties of sputtered zinc oxide film " J. Appl. Phys.80(2): 1063-1073.
- Chopra K. L. 1969, " Thin film phenomena" (New York; McGraw Hill) PP. 270
- Amirtharaj P. M. and Seiler D., G. 1995, "Handbook of Optics" ,Volume II .Devices , Measurements , and Properties . Second Edition. Sponsored by the Optical Society of America., PP.1105.